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发明名称 Method of analyzing metal impurities in surface oxide film of semiconductor substrate
摘要
申请公布号 EP0488149(B1) 申请公布日期 1996.05.08
申请号 EP19910120154 申请日期 1991.11.26
申请人 SEIKO EPSON CORPORATION 发明人 KATO, JURI
分类号 G01R31/26;G01N33/20;H01L21/66;(IPC1-7):G01N33/20;G01R31/312;G01N21/88 主分类号 G01R31/26
代理机构 代理人
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