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发明名称 Verfahren zum Entwickeln von Photoresisten
摘要
申请公布号 DE59010241(D1) 申请公布日期 1996.05.02
申请号 DE19905010241 申请日期 1990.12.05
申请人 BASF AG, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE 发明人 BINDER, HORST, W-6840 LAMPERTHEIM, DE;SCHWALM, REINHOLD, DR., W-6706 WACHENHEIM, DE
分类号 G03F7/32;(IPC1-7):G03F7/32 主分类号 G03F7/32
代理机构 代理人
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