发明名称 Photoresist Zusammensetzung
摘要
申请公布号 DE69301999(D1) 申请公布日期 1996.05.02
申请号 DE19936001999 申请日期 1993.11.22
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP., ARMONK, N.Y., US 发明人 CAMERON, JAMES FIELD, PALO ALTO, CALIFORNIA 94306, US;FRECHET, JEAN M. J., ITHACA, NEW YORK 14850, US;LEUNG, MAN-KIT, ITHACA, NEW YORK 14850, US;NIESERT, CLAUS-PETER, SAN JOSE, CALIFORNIA 95120, US;MACDONALD, SCOTT ARTHUR, SAN JOSE, CALIFORNIA 95128, US;WILLSON, CARLTON GRANT, SAN JOSE, CALIFORNIA 95126, US
分类号 G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/038 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
地址