| 发明名称 |
CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION |
| 摘要 |
A method of depositing a tin oxide film onto a heated substrate by chemical vapour deposition using a tetraalkyoxy tin compound and further, a method for doping said film with platinum or palladium using a beta -diketonate precursor thereof.
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| 申请公布号 |
WO9612831(A1) |
申请公布日期 |
1996.05.02 |
| 申请号 |
WO1995GB02504 |
申请日期 |
1995.10.23 |
| 申请人 |
EPICHEM LIMITED;JONES, ANTHONY, COPELAND |
发明人 |
JONES, ANTHONY, COPELAND |
| 分类号 |
C03C17/245;C23C16/40;(IPC1-7):C23C16/40;C23C16/18;C23C16/22 |
主分类号 |
C03C17/245 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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