| 发明名称 |
FORMATION OF SILICON OXIDE FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08109473(A) |
申请公布日期 |
1996.04.30 |
| 申请号 |
JP19940249779 |
申请日期 |
1994.10.14 |
| 申请人 |
ASAHI GLASS CO LTD |
发明人 |
OSAKI HISASHI;OGATA YUUKO;SHIMIZU JUNICHI;OYAMA TAKUJI;NISHIMURA HIROMICHI |
| 分类号 |
C23C14/10;C23C14/34;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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