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发明名称 Schützeinrichtung mit kippbarem Objekttisch, und optische Lithographieeinrichtung mit einer derartigen Einrichtung.
摘要
申请公布号 DE69204329(T2) 申请公布日期 1996.04.25
申请号 DE19926004329T 申请日期 1992.03.03
申请人 PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, NL;ASM LITHOGRAPHY B.V., VELDHOVEN, NL 发明人 BOUWER, ADRIANUS GERARDUS, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL;BAGGEN, MARCEL COENRAAD MARIE, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL;JANSSEN, HENRICUS WILHELMUS ALOYSIUS, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL;BARTRAY, PETRUS RUTGERUS, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL;VAN EIJK, JAN, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL
分类号 B23Q1/36;B23Q1/54;G03F7/20;G12B5/00;H01L21/027;H01L21/68;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 B23Q1/36
代理机构 代理人
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