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发明名称 Verfahren zum Herstellen eines Siliziumnitrid-Filmes.
摘要
申请公布号 DE69114373(T2) 申请公布日期 1996.04.25
申请号 DE1991614373T 申请日期 1991.06.21
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 MIKATA, YUUICHI, C/O INTELL.PROPERTY DIV., MINATO-KU, TOKYO 105, JP;MORIYA, TAKAHIKO, C/O INTELL.PROPERTY DIV., MINATO-KU, TOKYO 105, JP
分类号 C23C16/34;C23C16/44;C23C16/455;H01L21/318;(IPC1-7):H01L21/318 主分类号 C23C16/34
代理机构 代理人
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