Negativ-Photoresist auf Basis von Polyphenolen und ausgewählten Epoxid-oder Vinyletherverbindungen,申请号DE19883855088-传众专利搜索

发明名称	Negativ-Photoresist auf Basis von Polyphenolen und ausgewählten Epoxid-oder Vinyletherverbindungen
摘要
申请公布号	DE3855088(D1)	申请公布日期	1996.04.18
申请号	DE19883855088	申请日期	1988.07.22
申请人	CIBA-GEIGY AG, BASEL, CH	发明人	MEIER, KURT, DR., CH-4102 BINNINGEN, CH;ROTH, MARTIN, DR., CH-1735 GIFFERS, CH;SCHULTHESS, ADRIAN, DR., CH-1734 TENTLINGEN, CH;WOLLEB, HEINZ, DR., CH-1731 EPENDES, CH
分类号	C08G59/62;C08F2/48;C08G59/00;C08G59/18;C08L63/00;G03F7/023;G03F7/027;G03F7/032;G03F7/033;G03F7/038;(IPC1-7):G03F7/038	主分类号	C08G59/62
代理机构		代理人
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