| 发明名称 |
METHOD FOR TREATING SURFACE OF SEMICONDUCTOR ELEMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0897181(A) |
申请公布日期 |
1996.04.12 |
| 申请号 |
JP19940226883 |
申请日期 |
1994.09.21 |
| 申请人 |
FUJI ELECTRIC CO LTD |
发明人 |
MATSUZAKI KAZUO;AMANO AKIRA;KAMIJO KENJI;OKABAYASHI TAKEKI |
| 分类号 |
H01L21/306;H01L21/3063;H01L21/329;H01L29/861;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/306 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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