| 发明名称 |
APPARATUS FOR MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0891988(A) |
申请公布日期 |
1996.04.09 |
| 申请号 |
JP19940231178 |
申请日期 |
1994.09.27 |
| 申请人 |
MITSUBISHI HEAVY IND LTD |
发明人 |
KONDO KATSUHIKO;OGAWA MAKOTO;IKEDA TETSUYA |
| 分类号 |
C30B25/00;B01J19/08;H01L21/205;(IPC1-7):C30B25/00 |
主分类号 |
C30B25/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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