发明名称 Elektrolytisches Verfahren zum präzisen Behandeln von Leiterplatten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
摘要
申请公布号 DE4417551(C2) 申请公布日期 1996.04.04
申请号 DE19944417551 申请日期 1994.05.19
申请人 ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH, 10553 BERLIN, DE 发明人 SCHNEIDER, REINHARD, 90556 CADOLZBURG, DE
分类号 C25D5/00;C25F7/00;H05K3/07;H05K3/24;(IPC1-7):C25D7/00;C25D7/06;C25D17/10;C25D19/00;H05K3/00;C25D17/14 主分类号 C25D5/00
代理机构 代理人
主权项
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