| 发明名称 |
METHOD AND EQUIPMENT FOR FORMATION, WORKING, AND EVALUATION ANALYSIS OF SEMICONDUCTOR MATERIAL |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH0888179(A) |
申请公布日期 |
1996.04.02 |
| 申请号 |
JP19940248515 |
申请日期 |
1994.09.16 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
YAMAGUCHI HIROSHI;SASAKI HIDEYUKI;YOSHIKI MASAHIKO;TAKENAKA MIYUKI;HONMA YOSHINORI |
| 分类号 |
G01N37/00;G01N33/00;G01Q30/02;G01Q60/10;G01Q80/00;H01L21/02;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/203 |
主分类号 |
G01N37/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
