发明名称 Process for forming deposited film and process for producing semiconductor device
摘要
申请公布号 EP0420590(B1) 申请公布日期 1996.03.27
申请号 EP19900310501 申请日期 1990.09.25
申请人 CANON KABUSHIKI KAISHA 发明人 MATSUMOTO, SHIGEYUKI;IKEDA, OSAMU;OHMI, KAZUAKI
分类号 H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/285;H01L21/320 主分类号 H01L21/285
代理机构 代理人
主权项
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