| 发明名称 | 光掩模及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种光掩模，该光掩膜可防止用投影曝光装置进行掩模图形复制时因所用掩模的析像不良所引起的成品率的降低，或防止产生不需要的投影像，且该光掩模在由半透明膜和相移器构成的半透明区域中设有由透明区域构成的主图形，通过各个区域的光的相位差实质上为180°。在此光掩模的主图形的周围配置透射光的相位差与主图形同相且透明的辅助图形。其中心线与主图形中心的距离D满足D＝bλ/NAm的关系。b的取值范围为1.35＜b≤1.9。 | ||
| 申请公布号 | CN1118457A | 申请公布日期 | 1996.03.13 |
| 申请号 | CN95107777.5 | 申请日期 | 1995.06.28 |
| 申请人 | 株式会社日立制作所 | 发明人 | 长谷川升雄;寺泽恒男;福田宏;早野胜也;今井彰;茂庭明美;冈崎信次 |
| 分类号 | G03F1/00;H01L21/30 | 主分类号 | G03F1/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 1.一种光掩模，至少包括对曝光用光半透明的区域和透明的区域，且通过上述半透明区域和上述透明区域的光的相位差实质上为180°，其特征在于：在由上述透明区域构成的主图形的周围，配置透过光的相位差与上述透明区域相同而且透明的辅助图形，上述主图形的中心或者所希望的中心线与上述辅助图形的中心或者所希望的中心线之间的距离D满足D＝bλ/NAm(其中，NAm为投影光学系统的掩模一侧的数值孔径，λ为曝光波长，b为系数，取值范围为1.35＜b≤1.9)的关系。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||