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发明名称
Interstitial doping in III-V semiconductors to avoid or suppress DX centre formation
摘要
申请公布号
EP0371684(B1)
申请公布日期
1996.03.13
申请号
EP19890312111
申请日期
1989.11.22
申请人
XEROX CORPORATION
发明人
CHADI, JAMES D.
分类号
H01L21/338;H01L29/812;H01L21/205;H01L21/265;H01L21/322;H01L29/205;H01L29/207;H01L29/778;(IPC1-7):H01L29/207
主分类号
H01L21/338
代理机构
代理人
主权项
地址
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