| 发明名称 |
COPPER ANODE FOR HIGH-CURRENT DENSITY PLATING |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH0867932(A) |
申请公布日期 |
1996.03.12 |
| 申请号 |
JP19940227342 |
申请日期 |
1994.08.29 |
| 申请人 |
MITSUBISHI MATERIALS CORP |
发明人 |
FURUSHIBA YUTAKA;ISHIBASHI SHUNJI |
| 分类号 |
C25D7/00;C22C9/00;C25D17/10;(IPC1-7):C22C9/00 |
主分类号 |
C25D7/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
