| 主权项 |
1. 热解炉之一种馈送管,具有用以馈送热馈料之设备,馈料含有焦炭抑制剂与其紧密混合,该馈送管包含:一导管(11),供热馈料流通过,具有一入口用以接受热馈料,及一出口用以放出馈料至热解炉;一纵向注射装置(12)置于导管(11)内,具有一入口端(14)位于导管之外,及一放出端(16)位在导管(11)之中心位置,用以放出焦炭抑制剂于馈料流之中心轴线邻近;一第一中央通道(20),位于注射装置(12)中,可与入口端(14)及放出端(16)流体相通,而用以供应包含焦炭抑制剂之流体至放出端;一第二中央通道(26),位于注射装置(12)中央附近并与第一中央通道(20)相邻,用以供应一雾化流体至放出端(16);一冷却套(32),位于注射装置(12)中央附近并与第二中央通道(26)相邻,用以循环与第二中央通道(26)相邻之冷却剂,以抑制注射装置(12)之第一中央通道(20)中之阻塞;一混合室(22),位在注射装置(12)之放出端(16)处,与第一中央通道(20)及第二中央通道(26)流体相通,用以接受来自第一及第二中央通道(20)与(26)之焦炭抑制剂并雾化流体,以形成一流体混合物;及一放出孔(30),位于一喷嘴(28)中,与混合室(22)流体相通,用以当流体混合物自混合室(22)流进馈料流中,雾化焦炭抑制剂流体;其中,抑制剂流体在撞击于导管(11)表面上并进入热解炉之前大致雾化。2. 如申请专利范围第1项所述之馈送管,包含一环形罩,沿注射装置之一长度上设置;一罩流体源,用以供应罩流体至该罩;及一混合区,在该罩中,邻近放出孔,用以混合雾化之焦炭抑制剂流体及罩流体,俾放出进入馈料流中。3. 如申请专利范围第2项所述之馈送管,其中,该焦炭抑制剂流体包含抑制剂之一溶液或分散体。4. 如申请专利范围第3项所述之馈送管,其中,该溶剂或分散体液体在放出进入馈料流中之前在该罩中大致蒸发。5. 如申请专利范围第2项所述之馈送管,其中该罩包含一辅助放出孔,用以雾化自该罩流进馈料流中之焦炭抑制剂流体。6. 如申请专利范围第2项所述之馈送管,包含一隔离阀,用以隔离注射装置及馈料流。7. 如申请专利范围第6项所述之馈送管,其中,该隔离阀具有一填塞函在出口端,用以可缩回之方式接纳注射装置于其中。8. 如申请专利范围第2项所述之馈送管,其中,该罩包含较大及较小直径之管形节段。9. 如申请专利范围第8项所述之馈送管,其中,较大直径节段具有一折流装置,用以加强雾化之抑制剂流体与罩流体混合。10. 如申请专利范围第2项所述之馈送管,其中,该罩流体包含馈料流之一侧流。11. 如申请专利范围第10项所述之馈送管,其中,该罩包含一槽口构制于一罩壁中,供馈料侧流流进。12.如申请专利范围第11项所述之馈送管,其中,该罩及注射装置间之一环形空有一填垫气体流,用以抑制雾化之焦炭抑制剂混合物凝结于其中。13. 如申请专利范围第2项所述之馈送管,其中,该罩具有一端在导管外,该外端具有一入口用以引进罩流体。14. 如申请专利范围第1项所述之馈送管,其中,该循环之冷却剂抑制放出孔中之阻塞。15. 如申请专利范围第1项所述之馈送管,其中,该冷却套包含同心管,在放出端处由喷嘴密封。16. 如申请专利范围第1项所述之馈送管,其中,雾化流体与抑制剂流体之质量比率为自约0.3至约2:1。17.如申请专利范围第1项所述之馈送管,其中,该经雾化之抑制剂流体具有平均小滴大小自约40(m至约100(m。18. 如申请专利范围第1项所述之馈送管,具有二段音速流通过该孔。19. 用以注射雾心之抑制剂流体于导管(11)中之制程流体流内之一种注射装置(12),包含:一外部入口端(14),位于该导管(11)外;一放出端(16),位于导管(11)内且与入口端(14)分开地相对,并与导管(11)中之流体的中心轴线相邻;一第二通道(20),位于注射装置(12)中的纵向上,可与入口端(14)及放出端(16)流体相通,用以供应包含焦炭抑制剂之抑制剂流体至放出端(16);一第二中央通道(26),位于注射装置(12)的中央附近并与第一中央通道(20)相邻,用以供应一雾化流体至放出端(16);一环形冷却套(32),位于中央附近并与第二中央通道(26)相邻,用以循环与第二中央通道(26)相邻的冷却套剂,以抑制第一中央通道(20)中之阻塞;一混合室(22),位在注射装置(12)之放出端(16),与第一中央通道(20)及第二中央通道(26)流体相通,用以接收抑制剂流体,并雾化流体以形成一流体混合物;及一放出孔(30),位在喷嘴(28)中与混合室(22)相邻,且与混合室(22)流体相通,当流体混合物自该混合室(22)流过放出端(16)时,用以雾化抑制剂流体;其中,该抑制剂流体在撞击于导管(11)表面上并进入热解炉之前大致雾化。20. 20.用以注射雾化之抑制剂流体于导管(11)中之制程流体流内之一种注射装置(12),包含:一外部入口端(14),位于该导管(11)外;一放出端(16),位于导管(11)内且与入口端(14)分开地相对,并与导管(11)中之流体的中心轴线相邻;一第一通道(20),位于注射装置(12)中的纵向上,可与入口端(14)及放出端(16)流体相通,用以从入口端(14)供应抑制剂流体至放出端(16);一第二中央通道(26),位于注射装置(12)的中央附近并与第一中央通道(20)相邻,用以供应一雾化流体至放出端(16);一环形冷却套(32),位于中央附近并与第二中央通道(26)相邻,用以循环与第二中央通道(26)相邻的冷却套剂,以抑制第一中央通道(20)中之阻塞;一混合室(22),位在注射装置(12)之放出端(16),与第一中央通道(20)及第二中央通道(26)流体相通,用以接收抑制剂流体,并雾化流体以形成一流体混合物;及一放出孔(30),位在喷嘴(28)中与混合室(22)相邻,且与混合室(22)流体相通,当流体混合物自该混合室(22)流过放出孔(30)及放出端(16)时,用以雾化抑制剂流体;一环形罩(42),沿注射装置(12)之长度上设置,且与注射装置(12)相邻;一罩流体源,用以供应罩流体至罩(42);及一混合区(45),位在罩(42)的内部,而与注射装置(12)之放出端(16)相邻,用以混合经雾化之抑制剂和罩(42)流体;其中,罩(42)及罩流体适于在雾化之抑制剂流体自罩混合区(45)流过之前蒸发该流体。图示简单说明:图1为本发明之一实施例之断面侧视图,部份切开,部份为透视图,显示热解炉之一馈送管,具有一注射装置用以注射焦炭抑制剂,装于一导管弯部中。图2为图1之注射装置之侧断面图,部份为透视图,显示一中央通道,一环形通道,及一外水套。图3为图2所示之注射装置之喷嘴端之放大侧断面图。图4为沿图2之线4-4上之注射装置之横断面图。图5为本馈送管之另一实施例之侧断面图,部份切开,部份为透视图,显示包里于注射装置上之一蒸发罩,其中,馈料气体之一部份用作罩气体。图6为本馈送管之另一实施例之侧断面图,部份切开,部份为透视图,显示包里于注射装置上之一蒸发罩,其中,罩气体由外部供应。图7为本馈送管之一模组式实施例之侧视图,部份切开,部份为透视图,显示除罩外,安装于外部之一注射装置,其中,罩气体由外部供应。图8为本馈送管之一可伸缩实施例之侧视图,部份切去,具有一注射装置及罩置于一导管中,在馈料流外通过一中间隔离阀,其中,注射装置可自导管中缩回且阀关闭,而无需关掉该炉。图9为图8之可伸缩实施例之侧视图,部份切开,显示罩置 |
