| 发明名称 |
Multistep planarized chemical vapor deposition process |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0386337(B1) |
申请公布日期 |
1996.03.06 |
| 申请号 |
EP19890123195 |
申请日期 |
1989.12.15 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC. |
发明人 |
MAYDAN, DAN;WANG, DAVID NIN-KOU |
| 分类号 |
C23C16/40;C23C16/50;C23C16/511;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3105;H01L21/316;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/311 |
主分类号 |
C23C16/40 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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