摘要 |
SE PRESENTA UNA COMPOSICION POLIMERICA ANTIESTATICA QUE COMPRENDE UN POLIMERO DE BASE, QUE CONSTITUYE ENTRE EL 20N Y 98.9% DE LA COMPOSICION, EL POLIMERO INCLUYE TANTO UN AGENTE DE SUPERFICIE ACTIVA QUE CONSTITUYE ENTRE EL 0.1 Y 30% DE LA COMPOSICION COMO UN ADITIVO ANTIESTATICO QUE CONSTITUYE ENTRE EL 1 Y 50% DE LA COMPOSICION. EL AGENTE DE SUPERFICIE ACTIVA COMPRENDE AL MENOS UN COMPUESTO SELECCIONADO ENTRE AMINO, SULFONIL O TITANATO DE FOSFONIL, CIRCONATO O CIRCOALUMINATO Y EL ADITIVO ANTIESTATICO ES UN POLIMERO DERIVADO DE OXIDO DE ETILENO Y AL MENOS UN MONOMERO SELECCIONADO ENTRE EPIHALOHIDRINA, OXIDO DE PROPILENO, Y UN MONOMERO CICLICO. LA COMPOSICION CONTIENE PREFERIBLEMENTE UN COMPATIBILIZADOR. OPCIONALMENTE, LA COMPOSICION PUEDE CONTENER UN RELLENO MINERAL, QUE CONSTITUYE ENTRE EL 0.1 Y 70% DEL PESO DE LA COMPOSICION, TAL COMO UN OXIDO DE METAL, POR EJEMPLO UN OXIDO DE TITANIO, ZINC, ESTAÑO, ANTIMONIO O ALUMINIO, UN SILICATO DE METAL, ALUMINOSILICATO O CARBONATO U OXIDO DE SILICIO.EL POLIMERO DE BASE PUEDE SER UN HOMOPOLIMERO O UN COPOLIMERO DE ETILENO, PROPILENO O ESTIRENO, UN POLIESTER ALIFATICO O AROMATICO, UNA POLIAMIDA, UN POLICARBONATO O UN ELASTOMERO O UNA COMBINACION DE MAS DE UNO DE ELLOS. LA COMPOSICION POLIMERICA ANTIESTATICA PODRIA TENER UNA RESISTIVIDAD SUPERFICIAL DEL ORDEN DE 10 ELEVADO A 10 OHM/SQ.
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