发明名称 |
形成功能沉积膜的方法 |
摘要 |
向成膜空间引入成膜材料化合物,如果需要引入含能控制沉积膜价电子的元素的化合物,形成半导体功能沉积膜,每一化合物处于气态或至少一种化合物是激活态,同时形成激发态氢原子,与成膜空间的气态的或激活空间中的激活态化合物发生化学反应,在基片上形成沉积膜,其中用一微波回路中与两个阻抗匹配回路结合的共振腔中的等离子体产生室产生的微波等离子,从氢气或氢气与惰性气体的混合气体中形成激发态氢原子,并且其激发态受到控制。 |
申请公布号 |
CN1031088C |
申请公布日期 |
1996.02.21 |
申请号 |
CN89100622.2 |
申请日期 |
1989.02.01 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
新井孝至;金井正博;川上総一郎;村上勉 |
分类号 |
H01L21/205;C23C16/00;C23C16/24 |
主分类号 |
H01L21/205 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
刘建国 |
主权项 |
1.一种形成功能沉积膜的方法,通过向在其上形成沉积膜的基片所在的成膜空间引入作为成膜原料的含有属于周期表第四族元素的化合物,以及,如果需要,引入含有能控制沉积膜价电子的元素作为组成成分的化合物,形成含有周期表第四族原子作为主要组成原子的功能沉积膜,每一化合物成气态或者至少化合物是在与所述成膜空间分开的激活空间中预激活的状态,同时形成激发态氢原子,它们与至少一种所述气态的或者在不同于所述成膜空间的激活空间中处于激活态的并被引入成膜空间的化合物起化学反应,从而在所述基片上形成沉积膜,其特征在于:所述激发态氢原子是用一微波回路中的与两个阻抗匹配回路相结合的共振腔中的等离子体产生室中产生的微波等离子体,从氢气或氢气与一惰性气体组成的气态混合物形成的,所述等离子体产生室包括一个金属网组件和可渗透微波的钟罩,并通过所述金属网组件与所述成膜空间连在一起,而且氢原子的激发态是受到控制的。 |
地址 |
日本东京都 |