| 发明名称 |
TARGET FOR SPUTTERING AND ITS PRODUCTION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0849069(A) |
申请公布日期 |
1996.02.20 |
| 申请号 |
JP19940201399 |
申请日期 |
1994.08.03 |
| 申请人 |
HITACHI METALS LTD |
发明人 |
HIRAKAWA EIJI;HIRAKI AKITOSHI |
| 分类号 |
C01B21/076;C22C1/05;C22C29/16;C23C14/34;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C01B21/076 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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