| 发明名称 |
METHOD OF LASER TREATMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0845839(A) |
申请公布日期 |
1996.02.16 |
| 申请号 |
JP19940198042 |
申请日期 |
1994.07.28 |
| 申请人 |
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD |
发明人 |
TERAMOTO SATOSHI;OTANI HISASHI;MIYANAGA SHOJI;HAMAYA TOSHIJI |
| 分类号 |
C30B25/16;C23C14/56;C23C16/56;H01L21/02;H01L21/20;H01L21/265;H01L21/268;H01L21/336;H01L27/12;H01L29/78;H01L29/786;(IPC1-7):H01L21/20 |
主分类号 |
C30B25/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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