| 发明名称 |
PLASMA CONTROL METHOD AND PLASMA PROCESSING DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0845699(A) |
申请公布日期 |
1996.02.16 |
| 申请号 |
JP19940234815 |
申请日期 |
1994.09.29 |
| 申请人 |
SONY CORP |
发明人 |
KIZAKIHARA TOSHIROU;KOJIMA AKIRA;KATO TAIJI;MOTOHORI ISAO;SAKAUCHI SATOSHI;CHIBA TOMOHIRO;KAWASHIMA TOSHITAKA |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C14/32;C23C14/34;C23C16/50;C23F4/00;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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