| 主权项 |
1.一种组成物,包括: (a)一对于氧化,热或光导致降解是敏感之合成聚合 物, 及 (b)至少一式Ⅰ化合物: 其中 R@ss1是氯或-OR'@ss1, R'@ss1是氢,乙醯基, R@ss2是C@ss1-C@ss1@ss6烷基,C@ss7-C@ss9苯基烷基 或环己基, R@ss3是氢, R@ss4是C@ss1-C@ss4烷基,C@ss7-C@ss9苯基烷基,环 己基,-CH@ss2CH@ss2COOH,或一式Ⅱ之群基: R@ss5是氢, R@ss7是氢或C@ss1-C@ss4烷基, R@ss1@ss0是-NH-, R@ss1@ss1是C@ss1-C@ss4烷基, R@ss1@ss2和R@ss1@ss3一起和其所键结的碳原子形成一 环 己叉环;及n是2;其中(a)和(b)之比例为100:0.0005至100:5 。2.如申请专利范围第1项之组成物,其除了成份(a) 和(b) 外,另外含有其他添加剂。3.如申请专利范围第2项 之组成物,其中该其他添加剂是 选自酚抗氧化剂,光稳定剂及/或加工稳定剂。4.如 申请专利范围第2项之组成物,包括至少一有机亚 磷 酸酯或膦酸酯当作添加剂。5.如申请专利范围第1 项之组成物,其中成份(a)是聚烯烃 。6.如申请专利范围第1项之组成物,其中成份(a)是 聚乙烯 或聚丙烯。7.一种式Ⅰ化合物: 其中: R@ss1是氯或-OR' @ss1, R' @ss1是氢,乙醯基, R@ss2是C@ss1-C@ss1@ss6烷基,C@ss7-C@ss9苯基烷基 或环己基, R@ss3是氢, R@ss4是C@ss1-C@ss4烷基,C@ss7-C@ss9苯基烷基,环 己基,-CH@ss2CH@ss2COOH,或一式Ⅱ之群基: R@ss5是氢, R@ss7是氢或C@ss1-C@ss4烷基, R@ss1@ss0是-NH-, R@ss1@ss1是C@ss1-C@ss4烷基, R@ss1@ss2和R@ss1@ss3一起和其所键结的碳原子形成一 环 己叉环;及n是2。8.如申请专利范围第1项之式Ⅰ化 合物,其是用于稳定合 成聚合物抵抗氧化,热或光导致之降解。9.一种稳 定合成聚合物抵抗氧化、热或光-导致降解的方 法,包括在其中加入或施用至少一如申请专利范围 第1项 之式Ⅰ化合物,加入量为合成聚合物之0.0005至5%重 量 百分比。10.一种制备式Ⅰ化合物的方法,包括反应 : (a)一当量之式Ⅲ酚: 其中各个取代基符号是如式Ⅰ中所定义者,和0.8至 2.0当 量之乙醛酸,(反应温度为60至120℃),可得一式Ⅳ化 合 物: 其中取代基符号是如申请专利范围第1项中所定义 者,及 (b) 制备一式Ⅰ化合物,其中R' @ss1不是氢,包括反应 式Ⅳ之结果化合物和氢氯酸,氧硫酸的氯化物,磷 酸的氯 化物,亚磷酸的氯化物,及一式Ⅴ之酸: R' @ss1-OH (Ⅴ) 一式Ⅵ的酸氯化物 R' @ss1-Cl (Ⅵ) 一式Ⅷ的对称或不对称酐 R' @ss1-O-R' @ss1 (Ⅷ) 或一式Ⅸ之异氰酸酯 R@ss1 @ss1-N=C=O (Ⅸ) 其中式Ⅴ,Ⅵ,Ⅷ及Ⅸ中之R' @ss1和R@ss1 @ss1是如申 请专利范围第1项中所定义者,但其限制为R' @ss1不 是氢 。11.如申请专利范围第10项之方法,其中所使用的 乙醛酸 |
