| 发明名称 |
METHOD OF CLEANING HYDROGEN-PLASMA DOWN-FLOW APPARATUS AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0837176(A) |
申请公布日期 |
1996.02.06 |
| 申请号 |
JP19940172943 |
申请日期 |
1994.07.25 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
KIKUCHI JUN;FUJIMURA SHUZO |
| 分类号 |
H01L21/302;B08B7/00;H01L21/304;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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