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发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR IMPROVING UNIFORMITY OF SURFACE TEMPERATURE OF SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 JPH0837193(A) 申请公布日期 1996.02.06
申请号 JP19950030639 申请日期 1995.02.20
申请人 APPLIED MATERIALS INC 发明人 TSUEN SHIYUU
分类号 H01L21/324;C23C16/458;C23C16/46;C30B25/10;C30B25/12;C30B31/12;H01L21/00;H01L21/687;(IPC1-7):H01L21/324 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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