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发明名称 PLASMA TREATING METHOD AND ITS DEVICE
摘要
申请公布号 JPH0831596(A) 申请公布日期 1996.02.02
申请号 JP19940169807 申请日期 1994.07.21
申请人 HITACHI LTD;HITACHI TOKYO ELECTRON CO LTD 发明人 TAMAI TAKAHIRO;HARASHIMA MASASHIGE;OGASAWARA MITSURU;MARUMO HIROSHI;HASEBE ARIHIRO
分类号 H05H1/46;C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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