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发明名称 PLASMA VAPOR REACTION APPARATUS AND THE TREATMENT THEREOF
摘要
申请公布号 KR960001465(B1) 申请公布日期 1996.01.30
申请号 KR19920004097 申请日期 1992.03.12
申请人 SEMICONDUCTOR ENERGY LAB. K.K. 发明人 SAKAMA, MIZUNORI;HUKATA, DAKESHI;ICHIZO, MIZUHIRO;ABE, HISASHI
分类号 C23C16/458;C23C16/509;H01J37/32;(IPC1-7):H01L21/223 主分类号 C23C16/458
代理机构 代理人
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