ELECTRON BEAM EXPOSURE,申请号JP19940154062-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	ELECTRON BEAM EXPOSURE
摘要
申请公布号	JPH0822937(A)	申请公布日期	1996.01.23
申请号	JP19940154062	申请日期	1994.07.06
申请人	FUJITSU LTD;FUJITSU VLSI LTD	发明人	YASUTAKE NOBUYUKI
分类号	H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
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