| 主权项 |
2. 如申请专利范围第1项所述『改良型舞台用高架』,其中纵杆以四纵杆之设计为最佳。3. 如申请专利范围第1项所述『改良型舞台用高架』,其中上、下衔接座均呈圆环状。4. 如申请专利范围第1项所述『改良型舞台用高架』,其中定位环周缘形成螺孔,以供定位螺栓穿过而紧迫纵杆而定位,并可放松定位螺栓以调整定位环之位置。5.如申请专利范围第1项所述『改良型舞台用高架』,其中下衔接座周缘设有定位螺孔,以供螺栓穿过而定位。6. 如申请专利范围第1项所述『改良型舞台用高架』,其中纵杆下端设有轮体。7. 如申请专利范围第6项所述『改良型舞台用高架』,其中轮体得具有刹车结构。8. 如申请专利范围第1项所述『改良型舞台用高架』,其中平台下端对应纵杆处形成内为卡掣槽之凸座。9. 如申请专利范围第1项所述『改良型舞台用高架』,其中交叉杆体之二杆体枢接处得偏向上方处。图示简单说明:第一图系本创作之立体外观示意图。第二图系本创作之局部分解示意图。第三图系本创作各纵杆上衔接座间之俯视示意图。第四图系本创作各纵杆下衔接座间之俯视示意图。第五图系本创作展开状态之正视示意图。第六图系本创作展开状态各纵杆下衔接座间之俯视示意图。第七图系本创作高架收合后之立体外观示意图。第八图系传统高架之立体外观示意图。 |
