发明名称 |
PROCEDIMIENTO PARA LA FORMACION DE UNA PELICULA CON DEPOSITO DE METAL, CONTENIENDO ALUMINIO COMO COMPONENTE PRINCIPAL, UTILIZANDO HIDRURO DE ALQUIL ALUMINIO. |
摘要 |
PROCESO PARA LA FORMACION DE UNA PELICULA DE AL QUE CONTENGA SI DE GRAN CALIDAD SEGUN EL METODO CVD QUE UTILIZA UN HIBRIDO DE ALUMINIO DE ALQUILO Y UN GAS QUE CONTENGA SILICIO E HIDROGENO. SE TRATA DE UN EXCELENTE PROCESO PARA LA FORMACION DE PELICULAS CON DEPOSITOS QUE TAMBIEN ADMITE LA DEPOSICION SELECTIVA DEL AL QUE CONTENGA SI.
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申请公布号 |
ES2079445(T3) |
申请公布日期 |
1996.01.16 |
申请号 |
ES19900309832T |
申请日期 |
1990.09.07 |
申请人 |
CANON KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
MIKOSHIBA, NOBUO;TSUBOUCHI, KAZUO;MASU, KAZUYA |
分类号 |
C23C16/42;H01L21/285;(IPC1-7):C23C16/42 |
主分类号 |
C23C16/42 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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