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发明名称 EXPOSURE SYSTEM, ITS MAGNIFICATION CORRECTING METHOD, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 JPH088165(A) 申请公布日期 1996.01.12
申请号 JP19940138923 申请日期 1994.06.21
申请人 FUJITSU LTD 发明人 KAWAKAMI KENICHI;MINAMI TAKAYOSHI
分类号 G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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