发明名称 DISPOSITIF DE MANIPULATION D'UN FAISCEAU DE RAYONS X EMIS PAR LES PARTICULES ACCELEREES DANS UN SYNCHROTRON
摘要 <P>Dans une chambre à vide (5), contenant une table à objet (6), dont le mouvement de balayage est réglable par rapport à un faisceau de synchrotron (2), pour supporter un objet à irradier, il est prévu entre la table à objet (6) et la fenêtre d'entrée du faisceau, des paires d'écrans déplaçables l'un par rapport à l'autre, dont la paire pour laquelle la mobilité mutuelle des écrans coïncide avec le mouvement de balayage est couplée à ce mouvement. En outre, une chambre à filtres (3), contenant les filtres pouvant être interposés dans le faisceau de rayons X du synchrotron (2) est installée en amont de la chambre à vide (5). L'invention est prévue pour l'utilisation de dispositifs d'irradiation pour la lithographie par gravure aux rayons X, servant à la fabrication de composants de la technique des micro systèmes, suivant une technologie connue sous le nom de Procédé LIGA.</P>
申请公布号 FR2722327(A1) 申请公布日期 1996.01.12
申请号 FR19940014816 申请日期 1994.12.09
申请人 JENOPTIK TECHNOLOGIE GMBH 发明人 SEHER BERND;REUTHER FRANK;MULLER LUTZ
分类号 G21K1/02;G03F7/20;G21K1/04;G21K3/00;G21K5/02;H01L21/027;H05H13/04 主分类号 G21K1/02
代理机构 代理人
主权项
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