FORMATION OF SILICIDE PATTERN,申请号JP19940166356-传众专利搜索

发明名称	FORMATION OF SILICIDE PATTERN
摘要
申请公布号	JPH088211(A)	申请公布日期	1996.01.12
申请号	JP19940166356	申请日期	1994.06.23
申请人	SONY CORP	发明人	SUENAGA ATSUSHI
分类号	H01L21/28;H01L21/3205;H01L23/52;(IPC1-7):H01L21/28;H01L21/320	主分类号	H01L21/28
代理机构		代理人
主权项
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