CVD VORRICHTUNG ZUM HERSTELLEN VON HALBLEITERN.,申请号DE19926006367-传众专利搜索

发明名称	CVD VORRICHTUNG ZUM HERSTELLEN VON HALBLEITERN.
摘要
申请公布号	DE69206367(D1)	申请公布日期	1996.01.11
申请号	DE19926006367	申请日期	1992.02.12
申请人	SEMICONDUCTOR PROCESS LABORATORY, CO. LTD., TOKIO/TOKYO, JP;ALCAN- TECH CO. INC., TOKIO/TOKYO, JP;CANON SALES CO. INC., TOKIO/TOKYO, JP	发明人	MAEDA, KAZUO SEMICONDUCTOR PROCESS LAB. CO. LTD., MINATO-KU TOKYO 108, JP;OHIRA, KOUICHI SEMICONDUCTOR PROCESS LAB. CO. LTD., MINATO-KU TOKYO 108, JP;HIROSE, MITSUO, MINATO-KU TOKYO 108, JP
分类号	C23C14/56;C23C16/458;C23C16/54;C30B25/12;C30B25/14;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/31;H01L21/677;H01L21/68;(IPC1-7):H01L21/31	主分类号	C23C14/56
代理机构		代理人
主权项
地址