发明名称 PHOTO-ASSIGNED NITROGEN DOPING OF II-VI SEMICONDUCTOR COMPOUNDS DURING EPITAXIAL GROWTH USING AN AMINE
摘要 <p>Il est possible d'accroître la concentration en accepteurs N dans la couche épitaxiale brute d'un composé semi-conducteur de type II-VI en utilisant comme support du dopant une butylamine tertiaire, l'accroissement étant renforcé par une croissance photo-assistée utilisant une lumière d'une longueur d'onde comprise entre 200 et 250 nm.</p>
申请公布号 WO1995034698(A1) 申请公布日期 1995.12.21
申请号 IB1995000371 申请日期 1995.05.17
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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