| 主权项 |
1. 一种高度不饱和化合物之选择性氢化方法,包括进料含有包括二烯烃及炔之高度不饱和化合物之烃流,随同有效氢分压至少0.1psia至低于70psia范围之氢气流至含有氢化作用触媒之蒸馏塔反应器,塔顶馏出物之压力范围系0至350psig,该触媒系蒸馏构造之一种组份,并且选择性氢化部份之高度不饱和化和物。2. 根据申请专利范围第1项之方法,其中该烃流包括具有3个至9个碳原子之脂肪系化合物。3. 根据申请专利范围第1项之方法,其中该烃流包括主要量之一般烯烃,其经回收当作该氢化之产物。4. 根据申请专利范围第1项之方法,其中该烃流之WHSV在0.1至35之间。5. 根据申请专利范围第1项之方法,其中之氢分压低于50psia。6. 根据申请专利范围第5项之方法,其中之氢分压低于10psia。7. 根据申请专利范围第6项之方法,其中之氢分压低于7psia。8. 根据申请专利范围第1项之方法,其中氢化催化剂包括作为主要催化成份之VIII族金属或金属化合物。9.根据申请专利范围第8项之方法,其中该催化剂包括Pd。10. 根据申请专利范围第1项之方法,其中该塔顶馏出物压力系在50至150psia之间。11. 一种包括在富含烯烃流中含二烯烃及炔属化合物之高度不饱和化合物之选择性氢化方法,包括下列步骤:(a) 进料(1)包括烯烃、二烯烃及炔属烃化合物之第一料流及(2)含氢之第二料流至蒸馏塔反应器中以达进料区域;(b) 在该蒸馏塔反应器中,氢分压为0.1psi至低于50psi之同时:() 使令蒸馏塔反应区域中之该流与依充作蒸馏构造之形式制备之氢化催化剂接触,由此使得基本上所有该二烯烃与炔属化合物和该氢反应,以形成反应混合物中较少之不饱和烃,及() 藉分馏作用该第一料流中包含之烯烃及由该反应混合物中经该氢化作用产生之烯烃分离。12. 根据申请专利范围第11项之方法,其中该第一料流系在位于或低于该蒸馏反应区之下端饲入。13. 根据申请专利范围第11项之方法,其中该流动系分别饲入该蒸馏塔反应器中。14. 根据申请专利范围第11项之方法,其中该第一及第二料流系在进入该蒸馏塔反应器前混合。15. 根据申请专利范围第11项之方法,其中该烃流包括具有3个至9个碳原子之脂肪系化合物。16. 根据申请专利范围第15项之方法,其中该烃流包括C@ss3馏份。17. 根据申请专利范围第15项之方法,其中该烃流包括C@ss4馏份。18. 根据申请专利范围第15项之方法,其中该烃流包括C@ss5馏份。19. 根据申请专利范围第15项之方法,其中该烃流包括C@ss6馏份。20. 根据申请专利范围第15项之方法,其中该第一及第二料流在饲入该蒸馏塔反应器前结合。21. 根据申请专利范围第11项之方法,其中氢化催化剂包括VIII族金属或金属化合物当作主要之催化剂成份。22. 根据申请专利范围第21项之方法,其中该氢化催化剂包括0.1至5.0wt%于氧化铝挤出物上之氧化钯。23. 根据申请专利范围第11项之方法,其中该蒸馏塔反应器之塔顶馏出物压力系在240至315psig间。24. 根据申请专利范围第23项之方法,其中该第一料流包括丙烯。25. 根据申请专利范围第11项之方法,其中该蒸馏构造包括以粒状氢化催化剂物质排列之可挠、半硬质开放网目管状物质铁网。26. 根据申请专利范围第11项之方法,尚包括步骤(c)使自步骤(b)(ii)分离之烯烃随同任何烷及包含任何未反应之氢之较轻化合物自该蒸馏塔反应器抽取当作塔顶馏出物。27. 根据申请专利范围第11项之方法,其中该蒸馏塔反应器在塔顶馏出物压力为0至250psig间操作。28. 根据申请专利范围第27项之方法,其中该压力系在50至150psig之间。29. 根据申请专利范围第11项之方法,其中该蒸馏反应区中之温度系在40至300℉之间。30. 根据申请专利范围第29项之方法,其中该蒸馏反应区中之温度系在110至270℉之间。31. 根据申请专利范围第11项之方法,其中全部之该二烯烃及炔属化合物系自该烃流中去除。32. 根据申请专利范围第11项之方法,其中第一料流之WHSV系在0.1至35之间。33. 根据申请专利范围第12项之方法,其中氢化催化剂包VIII族金属或金属化合物当作主要之催化剂成份。34. 根据申请专利范围第33项之方法,其中该氢化催化剂包括0.1至5.0wt%于氧化铝挤出物上之氧化钯。35. 根据申请专利范围第33项之方法,其中该蒸馏塔反应器系在塔顶馏出物压力为0至250psig间下操作。36.根据申请专利范围第35项之方法,其中该蒸馏反应区之温度在40至300℉间。37. 根据申请专利范围第36项之方法,其中该压力系在50至150psig间。38. 根据申请专利范围第37项之方法,其中该蒸馏反应区之温度在110至270℉之间。39. 根据申请专利范围第38项之方法,其中氢分压系在0.1至10 psia之间。40. 根据申请专利范围第39项之方法,其中内回流系在0.5至5 L/D之范围。41. 根据申请专利范围第11项之方法,其中全部之高度不饱和化合物系经氢化。图示简单说明:图1系本发明之一个具体例之简单流程图。图2系本发明之第二具体例之简单流程图。图3系本发明之第三具体例之简单流程图。 |
