| 主权项 |
1. 一种经涂覆之过碳酸钠颗粒,其系由一个主要是 过碳 酸钠的核和一层含有至少一个含有过氧之硼化合 物之涂层 所组成,其特征为存在有充作含有过氧之硼化合物 的一个 或多个反应产物,该反应产物系源自于二硷金属四 硼酸盐 或硷金属五硼酸盐与水溶性过氧化氢之反应,其中 该涂层 中之含有过氧之硼化合物是通式为Na@ss2B@ss4O@ss7 nH @ss2O@ss2mH@ss2O之过硼砂,其中n为1至4,适宜地为2 至4之整数,且m为0至9,适宜地为0至2之整数,且其涂 层 用量系以过碳酸钠为基准,相当于1至10重量百分比 ,适 宜地为2至6重量百分比。2. 如申请专利范围第1项 之经涂覆之过碳酸钠颗粒,其中 该涂层系由超过50重量百分比,适宜地超过70重量 百分比 之过氧化氢与四硼酸盐或五硼酸盐的反应产物,以 及低于 50重量百分比,适宜地低于30重量百分比之其他安 定用之 化合物所组成。3. 一种制造经涂覆之过碳酸钠颗 粒的方法,该经涂覆之 过碳酸钠颗粒系由一个主要是过碳酸钠的核和一 层一个或 多个涂覆组成份之涂层所组成,该涂覆组成份系包 含至少 一个含有过氧之硼化合物,该方法系藉由涂覆至少 一个含 有过氧之硼化合物和,如有需要,其他之涂覆组成 份,适 宜地系使用含有涂覆组成份之水溶液,至主要系由 过碳酸 钠所组成之颗粒上,且如有需要,乾燥该湿润之颗 粒,该 方法之特征系在于使用一个或多个源自于二硷金 属四硼酸 盐或硷金属五硼酸盐与水溶性过氧化氢反应之反 应产物以 充作含有过氧之硼化合物,其中用于涂覆之溶液系 包含20 至50重量百分比,特别系25至40重量百分比之通式为 Na@ ss2B@ss4O@ss7nH@ss2O@ss2之过硼砂,其中n为1至4, 适宜地为2至4,特别地为4之整数,且于混合器或流 体化 床乾燥器中喷洒含有该含有过氧之硼化合物的水 溶液至主 要系由过碳酸钠所组成之颗粒上,且将其所获致之 湿润颗 粒立即地或随后地于30至90℃下,适宜地系于50至80 ℃下 ,加以乾燥。4. 如申请专利范围第3项之方法,其特 征系在于前述之反 应产物系以水溶液之型式,适宜地系以反应混合液 之型式 加以使用,该前述溶液包含硼对活性氧之原子比为 1:0.2 至1:1.5,适宜地系1:0.5至1:1.25,且更适宜地系1: 大致为1。5. 如申请专利范围第1或2项之经涂覆之 过碳酸钠颗粒, 其系用于去垢剂,清洁剂或漂白剂。6. 如申请专利 范围第3或4项之方法,其所获致之经涂覆 |
