| 主权项 |
1﹒一种处理废水之方法,将该废水循环使之与一气体接触,其中该废水系不断引进一装置,在此装置内循环,并于处理后自其移出,该装置包含一主要处理室,处理室内有一下流管与一上流管,此等管系在处理室之内或则以其下端与生处理室内部连通,该下流及上流管于上端经过此装置之一部份相互连通,气体可自此部份逸出,又上流管之下端与此室在一比下流管下端稍低之一高度连通,废水在下流管内向下流动而在上流管内向上流动,以在该室内产生一上端区与一下端区,此二区内废水一气体混合物流动型式本质上不同,上端区系在下流管下端与处理室相通之高度以上,而下端区则在此高度以下,废水在处理室之上端区内向上或向下流动视其废水导入此装置之方式而定,废水与气体接触,该气体系由废水夹带或注入废水中者。2﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其中该气体系一含氧气体。3﹒根据上述请求专利部份第1或第2项之方法,包括控制废水与气体循环率之步骤,使废水一气体混合物在室之上端区内下流管之下端以上,及室之下端区内下流管之下端以下发生本质上不同型式之流动。4﹒根据上述请求专利部份第3项之方法,其中该循环率系使不端区内废水之向下速度低至足以任许实质上全部气泡能向上逸出。5﹒根据上述请求专利部份第3项之方法,其中该循环率系使不端区内废水之向下速度高至足以使实质上全部气泡向下带进下端区。6﹒根据上述请求专利部份第3项之方法,其中该循环率系使不端区内废水之向下速度引起气泡之自动分配,一部份逸散至上端区而一部份被带下入下端区。7﹒根据上述请求专利部份第3项之方法,其中该循环率系由一个以上开口控制,经过该开口,废水由下流管流入室内。3﹒根据上述请求专利部份各项中任何一项之方法,其中进入该室作处理之废水经由一与下流管连通之管进入。 9﹒根据上述请求专利部份第1至7项中任一项之方法,其中进入该室作处理之废水直接流入室之上端。10﹒根据上述请求专利部份各项中任一项之方法,其中有一补充向下流量分与下流管内废水,因而引起在上区内一补充向上流量。11﹒根据上述请求专利部份第10项之方法,其中该补充向下流量系由一推进喷射管授予。12﹒一种处理废水之方法实质上系如本说明书参考附图所说明者。13﹒处理废水之装置,对该废水循环使之与一气体接触,包含一主要处理室,内有一下流管与一上流管,或在其内部与管之下端连通,该下流与上流管于管上端经过此装置之一部份相互连通,气体可自此部份逸出,上流管之下端与此室在一比下流管下端稍低之一高度连通;废水离开此装置之设备;在装置内使废水循环之设备;以及将气体引入在装置内被循环废水中之设备。14﹒根据上述请求专利部份第13项之装置,包括使该废水与该气体发生接触之设备。15﹒根据上述请求专利部份第14项之装置,包括在该废水内注入成夹带气体之设备。16﹒根据上述请求专利部份第13至15项中任一项之装置,其中该处理室之轴,其长度达80公尺,而以25至50公尺为较佳。17﹒根据上述请求专利部份第16项之装置,其中该轴系嵌入地下者。18﹒根据上述请求专利部份第13项至17项中任一项之装置,其中下流管与上流管系悬挂在处理室内。19﹒根据上述请求专利部份第18项之装置,其中个别管之直径不大于室径之一半。20﹒根据上述请求专利部份第13至19项中任一项之装置,其中上流管之下端系靠近处理室之底。21﹒根据上述请求专利部份第20项之装置,其中下流管之下端系在上流管下端之上,譬如在顶部测量起室深1/3与3/4之间。22﹒根据上述请求专利部份第13至21项中任一项之装置,包括在下流管内加入一补充流量,亦即在室内上区加一补充流置之设备。23﹒根据上述请求专利部份第22项之装置,其中该补充流量系由一推进喷射管供给。24﹒根据上述请求专利部份第13至23项中任一项之装置,其中设有一个以上开口,经过该等开口废水由下流管流入室内。25﹒根据上述请求专利部份第13至24项中任一项之装置,其中该废水经一与下流管连通之管进入。26﹒根据上述请求专利部份第13至24项中任一项之装置,其中该废水直接进入室之上端。27﹒根据上述请求专利部份第13至26项中任一项之装置,包括一漂浮室,与主要处理室于其下端或接近其下端处连通。28﹒根据上述请求专利部份第27项之装置,包括一凝气瓣用以防止空气泡被带入漂浮室。29﹒根据上述请求专利部份第13至28项中任一项之装置,其中该循环设备包含一机械泵。30﹒根据上述请求专利部份第13至28项中任一项之装置,其中循环方式包含引入废水之气体。31﹒处理废水而将该废水循环,使与一气体接触之装置,实质上系如本说明书参照附图所说明者。 |
