Strahlungsempfindliches Gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefaufzeichnungen.
摘要
申请公布号
DE59106745(D1)
申请公布日期
1995.11.30
申请号
DE19915006745
申请日期
1991.01.24
申请人
HOECHST AG, 65929 FRANKFURT, DE
发明人
ELSAESSER, ANDREAS, DR. DIPL.-CHEM., W-6270 IDSTEIN, DE;FRASS, HANS WERNER, DR. DIPL.-CHEM., W-6200 WIESBADEN, DE;MOHR, DIETER, DR. DIPL.-CHEM., W-6501 BUDENHEIM, DE
