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发明名称 Verfahren zum Herstellen einer strukturierten Dünnschicht aus einem Hochtemperatursupraleiter und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
摘要
申请公布号 DE4127701(C2) 申请公布日期 1995.11.30
申请号 DE19914127701 申请日期 1991.08.21
申请人 SIEMENS AG, 80333 MUENCHEN, DE 发明人 SEEBOECK, ROBERT, DIPL.-PHYS. DR., 91088 BUBENREUTH, DE;ROEMHELD, MICHAEL, DIPL.-PHYS. DR., 91080 UTTENREUTH, DE;BIRCKIGT, RUDOLF, 91077 NEUNKIRCHEN, DE
分类号 H01L39/24;(IPC1-7):H01L39/24;C04B35/00;C04B41/91;G01B11/06;G01N21/59;H01L21/268;H01L21/306 主分类号 H01L39/24
代理机构 代理人
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