发明名称 | 用于真空管的触点材料 | ||
摘要 | 一种用于真空管的触点材料,它包括:一类耐电弧成分,该耐电弧成分包含至少从一组金属中选择出来的一种金属,上述金属组有:铬、钛、锆、钒及钇。一类辅助成分,该辅助成分包含至少从一组金属中选择出来的一种金属,上述金属组有:钽、铌、钨及钼,以及一类导电成分,该导电成分包含至少从一组金属中选择出来的一种金属,上述金属组有铜及银。在上述触点材料中,耐电弧成分的含量按体积计为10%至70%,上述耐电弧成分与上述辅助成分的总含量按体积计不超过75%,其余为导电成分的含量。 | ||
申请公布号 | CN1112722A | 申请公布日期 | 1995.11.29 |
申请号 | CN94101048.1 | 申请日期 | 1994.02.02 |
申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 关经世;奥富功;山本敦史 |
分类号 | H01H1/02 | 主分类号 | H01H1/02 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王礼华 |
主权项 | 1、一种用于真空管的触点材料,它包含:一类耐电弧成分,它至少包含从一组金属中选择出来的一种金属,该组金属包括有:铬、钛、锆、钒及钇;一类辅助成分,它至少包含从一组金属中选择出来的一种金属,该组金属包括有:钽、铌、钨及钼:及一类导电成分,它至少包含从一组金属中选出来的一种金属,该组金属包括有:铜及银;上述耐电弧成分的含量,以体积计为10%至70%;上述耐电弧成分与上述辅助成分的总量,以体积计不大于75%;其余为上述导电成分的含量。 | ||
地址 | 日本东京 |