发明名称 METHOD OF PRODUCING STRUCTURED INORGANIC LAYERS
摘要 <p>Strukturierte anorganische Schichten werden dadurch hergestellt, daß man eine Zusammensetzung, die erhältlich ist durch Hydrolyse und Polykondensation von (A) mindestens einem hydrolysierbaren Silan der allgemeinen Formel (I) SiX4, in der die Reste X gleich oder verschieden sind und hydrolysierbare Gruppen oder Hydroxylgruppen bedeuten, oder einem davon abgeleiteten Oligomer, und (B) mindestens einem Organosilan der allgemeinen Formel (II) R1aR2bSiX(4-a-b), in der R1 ein nicht hydrolysierbarer Rest ist, R2 einen eine funktionelle Gruppe tragenden Rest bedeutet, X die vorstehende Bedeutung hat und a und b den Wert 0, 1, 2 oder 3 haben, wobei die Summe (a+b) den Wert 1, 2 oder 3 hat, oder einem davon abgeleiteten Oligomer in einem Stoffmengenverhältnis (A):(B) von 5-50:50-95, sowie (C) gegebenenfalls einer oder mehreren Verbindungen von glas- bzw. keramikbildenden Elementen, gegebenenfalls mit einem feinskaligen Füllstoff mischt, die erhaltene Zusammensetzung auf ein Substrat aufbringt, die aufgetragene Zusammensetzung strukturiert und die strukturierte Beschichtung thermisch zu einer strukturierten Schicht verdichtet.</p>
申请公布号 WO1995031413(A1) 申请公布日期 1995.11.23
申请号 EP1995001844 申请日期 1995.05.16
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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