发明名称 Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung mit Monosiliziumgebieten und Polysiliziumleiterbahnen, die mit einer Metallsiliziddeckschicht versehen sind.
摘要
申请公布号 DE69022836(D1) 申请公布日期 1995.11.09
申请号 DE1990622836 申请日期 1990.12.18
申请人 PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, NL 发明人 JONKERS, ALEXANDER GIJSBERTUS MATHIAS, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL;SEAMS, CHRISTOPHER ALAN, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL;GODON, HARALD, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL;STOLMEIJER, ANDRE, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL
分类号 H01L29/78;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/336;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/285;H01L21/60 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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