发明名称 | 含有防晕染料的光热敏成像单元 | ||
摘要 | 一种光热敏成像单元,所述的单元至少还包括一具有上式中心核的红外吸收染料层。 | ||
申请公布号 | CN1111365A | 申请公布日期 | 1995.11.08 |
申请号 | CN94118052.2 | 申请日期 | 1994.11.10 |
申请人 | 美国3M公司 | 发明人 | 詹姆斯B·菲利普JR;查尔斯W·高米兹 |
分类号 | G03C1/40 | 主分类号 | G03C1/40 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 吴惠中 |
主权项 | 1、一种光热敏成像单元,其特征包括在基底的至少一面上具有对电磁光谱的红外区域敏感的卤化银、对光敏感的银源、银离子的还原剂以及粘合剂组成的光热敏成像系统,所述的单元至少还包括一种具有如下式所示的中心核的红外吸收染料层:式中n为1-12的整数,Q为离子性酸性部分,以及M为阳离子,其数量为足以在所述的敏感的卤化银最大敏感度的波长处提供至少0.1的传输光学密度。 | ||
地址 | 美国明尼苏达 |