PROCEDIMIENTO PARA TRATAR, POR EJEMPLO, LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO MEDIANTE PROYECCION DE UN FLUJO DE PLASMA, Y DISPOSITIVO DE PUESTA EN PRACTICA DEL MISMO.

摘要

PROCESO PARA TRATA POR EJEMPLO LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO POR PROYECCION DE UN FLUJO DE PLASMA, Y DISPOSITIVO PARA LA APLICACION DEL PROCESO LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO Y A UN DISPOSITIVO PARA TRATAR LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO DEPOSITANDO EN EL POR EJEMPLO UN REVESTIMIENTO POR PROYECCION DE UN FLUJO DE PLASMA, DEL TIPO QUE CONSISTE EN CREAR UN ARCO ELECTRICO EN UNA CAMARA (2) ENTRE UN CATODO (5) Y UN ANODO (1), EN INTRODUCIR UN GAS INERTE EN LA CAMARA (2) PARA QUE SE IONICE A SU PASO A TRAVES DEL ARCO ELECTRICO PARA FORMA UN PLASMA A ALTA TEMPERATURA, Y EN EXPULSAR AL EXTERIOR DE LA CAMARA EL PLASMA A TRAVES DE UN BOQUILLA DE EYECCION (3) CUYO ORIFICIO DE SALIDA (4) TIENE FORMA DE RANURA PARA PROYECTAR PARTICULAS DE UN MATERIAL CONSTITUTIVO DEL REVESTIMIENTO QUE PASA A ESTADO FUNDIDO AL CONTACTO CON EL PLASMA, SOBRE EL SUSTRATO Y FORMA SOBRE ESTE UN REVESTIMIENTO. EL ARCO ELECTRICO CREADO ENTRE EL ANODO (1) Y EL CATODO (5) SE EXTIENDE SEGUN UN EJE SENSIBLEMENTE PARALELO AL EJEDE LA RANURA DE SALIDA (4) DE LA BOQUILLA DE EYECCION (3), EL GAS INERTE SE INTRODUCE EN LA CAMARA (2) SIGUIENDO VARIAS DIRECCIONES RADIALES (F1) RESPECTO DEL EJE DEL ARCO ELECTRICO Y EL MATERIAL A PROYECTAR ES LLEVADO POR UN GAS PORTADOR EN CONDUCTOS (12) QUE DESEMBOCAN POR EJEMPLO EN EL INTERIOR DE LA BOQUILLA DE EYECCION (3)