发明名称 Herstellung einer isolierenden Schicht, zum Beispiel in einem aktiven Matrix-Bauelement.
摘要
申请公布号 DE69020012(T2) 申请公布日期 1995.10.26
申请号 DE19906020012T 申请日期 1990.03.16
申请人 FUJITSU LTD., KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 NASU, YASUHIRO, C/O FUJITSU LIMITED, KAWASAKI-SHI, KANAGAWA 211, JP;OKAMOTO, KENJI, C/O FUJITSU LIMITED, KAWASAKI-SHI, KANAGAWA 211, JP;WATANABE, JUN-ICHI, C/O FUJITSU LIMITED, KAWASAKI-SHI, KANAGAWA 211, JP;ENDO, TETSURO, C/O FUJITSU LIMITED, KAWASAKI-SHI, KANAGAWA 211, JP;SOEDA, SHINICHI, C/O FUJITSU LIMITED, KAWASAKI-SHI, KANAGAWA 211, JP
分类号 H01L29/78;B82B1/00;G02F1/1362;G02F1/1368;H01L21/28;H01L21/316;H01L21/336;H01L21/77;H01L21/84;H01L29/786;(IPC1-7):H01L21/316;C23C16/40;G02F1/136 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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