| 发明名称 |
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07271022(A) |
申请公布日期 |
1995.10.20 |
| 申请号 |
JP19940063858 |
申请日期 |
1994.03.31 |
| 申请人 |
FUJI PHOTO FILM CO LTD |
发明人 |
KAWABE YASUMASA;TAN SHIRO;SATO KENICHIRO |
| 分类号 |
G03F7/022;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/022 |
主分类号 |
G03F7/022 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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