发明名称 ION IMPLANTING METHOD AND ISOLATION REGION FORMING METHOD
摘要
申请公布号 JPH07273186(A) 申请公布日期 1995.10.20
申请号 JP19940087796 申请日期 1994.03.31
申请人 SONY CORP 发明人 ARAI CHIHIRO
分类号 H01L21/76;H01L21/265;H01L21/266;H01L21/331;H01L29/732;(IPC1-7):H01L21/76 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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