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发明名称 METHOD AND SYSTEM FOR CVD OF HIGH-MELTING-POINT METAL LAYER
摘要
申请公布号 JPH07273046(A) 申请公布日期 1995.10.20
申请号 JP19940062805 申请日期 1994.03.31
申请人 SONY CORP 发明人 YANAGIDA TOSHIHARU
分类号 H01L21/285;C23C16/44;H01L21/205;H01L21/28;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/205 主分类号 H01L21/285
代理机构 代理人
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